英国SHAW便携露点仪SDHmini-EX：半导体洁净室的“湿度精密dun牌”

在半导体制造中，洁净室环境湿度是影响产品良率的关键因素之一。湿度过高会导致静电积累（ESD）风险激增，引发晶圆表面电荷放电，造成电路击穿；同时，水汽吸附会加速光刻胶老化、金属层氧化，导致产品缺陷率上升。英国SHAW公司推出的SDHmini-EX便携式露点仪，凭借其高精度、快速响应和抗污染能力，成为半导体洁净室湿度连续监测的核心工具，为芯片制造的“零que陷"目标提供坚实保障。

精准控湿：±2℃露点准确度，直击半导体工艺“湿度敏感带"

半导体制造对湿度的控制堪称“苛刻"：光刻工序需将露点稳定在-60℃至-40℃（对应相对湿度1%-10%），以避免光刻胶吸湿变形；刻蚀与沉积环节则要求露点≤-50℃，防止水汽参与化学反应导致薄膜均匀性变差。SDHmini-EX采用肖氏超高电容氧化铝传感器，露点测量范围覆盖-100℃至+20℃，准确度±2℃，分辨率0.1℃，可精准捕捉洁净室内微量水分波动。其传感器表面经特殊涂层处理，可耐受半导体工艺中常见的腐蚀性气体（如Cl₂、NF₃），确保长期测量稳定性。某12英寸晶圆厂应用后，成功将光刻工序的湿度波动范围从±1.5℃露点缩小至±0.5℃，产品关键尺寸（CD）均匀性提升8%。

实时响应与抗干扰设计：15秒检测周期，适配动态洁净室环境

半导体洁净室需通过FFU（风机过滤单元）持续调节气流，湿度控制需与生产节拍同步。SDHmini-EX的传感器响应时间极短：干燥至潮湿状态转换仅需15秒（-100℃至-20℃），潮湿至干燥状态转换小于120秒（-10℃至-60℃），可实时反馈湿度变化，指导空调系统快速调整加湿/除湿模块。其IP66防护等级与全密封设计，可抵御洁净室内的粒子冲击与化学气体侵蚀；内置电磁兼容（EMC）滤波模块，可屏蔽设备运行产生的电磁干扰，确保数据稳定性。某存储芯片生产线应用后，湿度控制响应时间缩短60%，因ESD导致的产品报废率降低35%。

数据驱动管理：30万点存储+多参数联动，支撑工艺优化与追溯

SDHmini-EX支持30万组数据存储，用户可预设机台编号、工序阶段等标签，实现检测数据与生产流程的精准关联。其屏幕可同步显示露点温度、相对湿度（%RH）、水蒸气分压（kPa）等参数，并生成趋势曲线，帮助工程师分析湿度波动与产品缺陷的关联性。通过蓝牙或USB接口，数据可导出至MES系统，生成符合SEMI E10标准的电子记录，支持工艺追溯与审计。某逻辑芯片厂商通过历史数据分析发现，某刻蚀机台出口露点在夜间时段异常升高，追溯后定位到除湿机冷凝器堵塞问题，维修后年节约返工成本超200万元。

从晶圆制造到封装测试，SDHmini-EX以“精准、实时、智能"三大核心优势，成为半导体行业湿度控制的“数字化dun牌"。其不仅帮助企业规避ESD风险、降低缺陷率，更通过数据驱动的工艺优化，推动芯片制造向更高良率、更低能耗方向升级。在“芯片强国"战略下，SDHmini-EX正为quan球半导体产业链的稳定运行提供关键技术支撑，守护每一颗芯片的“wan美诞生"。