在半导体和电子制造行业,洁净室是芯片诞生的"摇篮"。氮气(N₂)、氩气(Ar)等工艺气体被广泛用于晶圆清洗、刻蚀、封装等关键环节,气体中哪怕ppb级别的微量水分,都可能在芯片表面形成氧化层或引发腐蚀,导致线路短路、良率下降甚至整批报废。英国肖氏(SHAW)便携式露点仪SADP-D,凭借快速响应和便携设计,成为洁净室气氛监控的实用工具。

半导体制造对环境洁净度的要求极为苛刻,工艺气体的露点控制同样不容忽视。当氮气或氩气中的水分含量偏高时,水汽会在晶圆表面凝结或与材料发生反应,造成栅极氧化层缺陷、金属互连腐蚀等问题。这些缺陷往往在后道测试甚至出货后才被发现,造成巨大的经济损失。
因此, Fab厂需要对各用气点的气体露点进行定期抽查,确保干燥系统持续稳定运行。
SADP-D提供五种传感器可选,其中蓝(B)传感器覆盖-80°C至+20°C露点范围,对应0~23,000 ppm(v)水分浓度,能够覆盖洁净室工艺气体从一般干燥到深度干燥的检测需求。
仪器精度达±3°C露点,分辨率0.1°C,重复性优于±0.5°C,在洁净室内即可给出稳定可靠的读数。反应时间方面,干燥→潮湿响应小于20秒,潮湿→干燥小于120秒,完quan满zu多用气点快速巡回检测的节拍要求。
洁净室对带入物品有严格管控,设备必须小巧、无污染。SADP-D整机尺寸仅200×225×278mm,由6节C型电池供电,连续运行超过150小时,配有2米PTFE取样软管和专用皮革便携箱,工程师可随身携带至各用气点,即插即测。
其独特的干燥剂头设计,使传感器在两次测试之间始终保持干燥,确保每次开机都能即刻开始测量,无需等待预热。316烧结不锈钢过滤器可有效阻隔颗粒污染,保护传感器的同时也不会对洁净室造成二次污染。
在半导体和电子制造中,工艺气体的露点监控是良率保障的关键一环。SADP-D凭借蓝传感器的宽量程覆盖、快速响应和便携洁净的设计,让工程师在洁净室内就能完成各用气点的露点抽查,把水分隐患控制在源头,为每一片芯片的品质保驾护航