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英国SHAW便携式露点仪SDHmini:半导体制造的“湿度控制卫士”

更新时间:2026-01-30      点击次数:19

半导体制造是精密工艺与严苛环境控制的结合体,生产过程中气体湿度的微小波动都可能引发晶圆表面氧化、颗粒污染或化学气相沉积(CVD)工艺失效,导致产品良率下降甚至整批次报废。英国SHAW公司推出的SDHmini便携式露点仪,凭借其超高精度、快速响应及半导体行业专用设计,成为保障无尘室气体湿度稳定、提升芯片制造良率的“核心工具"。

技术内核:纳米级湿度控制的“精密标尺"

SDHmini的露点测量范围覆盖-100℃至+20℃,分辨率达0.1℃,准确度±2℃,可精准捕捉半导体工艺气体中ppb(十亿分之一)级的水分含量变化。其肖氏超高电容氧化铝传感器采用纳米级孔隙结构,对水分子具有超高选择性,避免与工艺气体中的其他成分(如硅烷、氨气)发生交叉干扰。配合干燥剂舱室自动净化技术,传感器在每次测量前自动排除环境空气冷凝影响,确保数据真实性。此外,仪器内置抗电磁干扰模块,可抵御无尘室内高频设备产生的电磁噪声,保障测量稳定性。

半导体场景应用:从晶圆制造到封测的全流程防护

光刻工艺气体净化:
在极紫外光刻(EUV)或深紫外光刻(DUV)中,高纯氩气或氦气需严格控湿(露点≤-80℃),以防止光刻胶吸潮导致图形畸变。SDHmini可实时监测气体供应管路的露点,确保湿度符合SEMI标准,避免晶圆报废。

化学气相沉积(CVD)控制:
在硅晶圆镀膜过程中,若反应气体(如硅烷、氮化硅)含水量超标,会导致薄膜结晶缺陷或颗粒污染。通过SDHmini监测气体露点,可动态调整干燥装置参数,将水分含量稳定控制在≤1ppb,提升薄膜均匀性。

封装环境湿度验证:
在芯片封装环节,惰性气体(如氮气)的湿度需控制在≤-60℃露点,以防止潮气侵入引发焊点腐蚀或分层。SDHmini的便携性使其可快速完成封装腔体、手套箱等密闭空间的湿度验证,缩短设备换气时间。

洁净室专用设计:适应半导体生产的严苛环境

SDHmini外壳采用316L不锈钢材质,通过IP66防护认证,可耐受无尘室常用的异丙醇清洗、臭氧消毒及低粉尘环境。其全彩色LCD屏幕支持手套操作模式,菜单逻辑符合SEMI E10标准,数据记录可追溯至操作人员与时间节点。30万点数据存储容量与蓝牙/USB传输功能,使得现场检测数据可直接对接工厂MES系统,实现湿度异常的实时报警与工艺参数联动调整。

案例实证:某晶圆厂的良率跃升

某12英寸晶圆厂曾在CVD工艺中遭遇薄膜缺陷率超标问题,经排查发现反应气体露点波动导致水分混入。引入SDHmini后,通过在气体供应管路、干燥塔出口等关键节点部署监测点,企业将气体露点稳定控制在-85℃以下,薄膜缺陷率下降90%,年减少良率损失超5000万元。
在半导体制造“微米级精度决定成败"的竞争格局下,英国SHAW便携式露点仪SDHmini以技术精准性、场景适配性与智能化能力,成为贯穿晶圆制造全流程的“湿度控制中枢"。它不仅是保障产品良率的“隐形盾pai",更是推动工艺优化、提升国际竞争力的“关键引擎"。

 


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